피케이, 포토마스크 제작용 식각장비 국내 첫 개발

　반도체용 포토마스크 전문생산업체인 피케이(대표 정수홍)가 포토마스크 제작용 건식 식각장비를 국내 최초로 개발, 이 시장에 본격 진출한다.

　이 회사는 차세대 포토마스크 제작을 위한 전자빔 노광 공정의 도입에 대응해 고밀도 플라즈마(HDP) 소스를 이용한 포토마스크용 건식 식각장비 「CP6000I」를 개발, 현재 최종 성능 평가 작업 중에 있다고 8일 밝혔다.

　이번에 개발된 장비는 기존보다 높은 플라즈마 밀도와 낮은 압력에서의 우수한 안정성 및 균일도를 보유하고 있으며 포토마스크의 하단 탑재(Face­Down Loading)에 의한 파티클 발생억제 메커니즘을 채용한 것이 특징이다.

　이에 따라 피케이는 국내 포토마스크 제조업체에 대한 본격적인 장비 공급에 착수하는 한편 이 제품을 오는 15일 미국에서 개최되는 「BACUS 심포지엄」을 통해 전세계 시장에 선보이고 미국·일본·대만 등에 적극 수출해 나갈 방침이다.

　또한 이 회사는 지난 97년부터 국내에 공급해온 미국 CFM사의 웨이퍼 세정 시스템을 응용해 만든 새로운 형태의 포토마스크용 세정 시스템도 곧 출시할 계획이다.

　이 회사가 현재 개발중인 포토마스크용 세정 시스템은 세척 단계별로 여러개의 체임버를 사용하는 기존의 세정 장비들과 달리 한 체임버 내에 마스크를 고정시키고 각 단계별로 다른 화학 물질을 번갈아 주입하는 독특한 방식을 채용하고 있다.

　그동안 포토마스크 제조에 주력해온 피케이는 이번 식각 및 세정 장비의 개발을 계기로 반도체 장비 부문 사업도 본격화할 계획이며 현재 코스닥 시장 등록도 추진중이다.

<주상돈기자 sdjoo@etnews.co.kr>