일본 캐논이 현재 주류를 이루고 있는 불화크립톤(KrF) 엑시머레이저를 그대로 사용하면서도 선폭 0.1㎛이하 반도체회로 배선패턴을 형성할 수 있도록 하는 새로운 미세노광기술을 개발했다.
「일경산업신문」에 따르면 「이노베이티브 더블 익스포저 바이 어드밴스트 리소그래피(IDEAL)」로 명명된 이 기술은 반도체회로의 배선 해상도를 기존의 약 2배로 높이는 광학노광기술로, 이를 이용하면 기존 스테퍼로도 차세대형이 추구하는 수준의 고해상도를 얻을 수 있다.
캐논은 이번에 회로원판(레티클)을 교환하면서 두 번 굽는 이중노광기술을 독자적으로 개량해 실용화에 성공했다.
현재 일반적으로 보급돼 있는 KrF스테퍼의 가격은 4억∼5억엔으로 이번 여름부터 본격 출하가 시작되는 최첨단장치도 8억5천만엔 정도의 가격대를 형성할 것으로 보인다.
여기에 IDEAL기술을 KrF스테퍼에 채택하는 데 드는 비용 1천∼2천만엔을 합치면 최첨단기종의 경우에도 합계 9억엔 미만의 비용으로 ArF스테퍼 수준의 미세가공 성능을 얻을 수 있다.
이에 반해 차세대형 ArF스테퍼는 현재 출하되고 있는 연구개발용의 가격이 10억∼12억엔이다.
이처럼 IDEAL기술을 채택하면 낮은 비용으로 높은 해상도를 얻을 수 있으나 처리과정이 레티클을 교환해 두 번 구워야 하는 등 다소 복잡하기 때문에 처리능력은 크게 떨어진다.
KrF스테퍼의 처리능력은 2백㎜ 웨이퍼 기준으로 시간당 90∼1백장이나 여기에 IDEAL을 단순히 도입할 경우 20∼30장 수준에 그친다.
이 때문에 새 기술의 시장성에 의문을 제기하는 목소리도 나오고 있으나 캐논측은 반도체업체들이 지난 수년간의 시황악화로 설비투자를 억제하고 있다는 점을 감안, IDEAL 수요는 당분간 꾸준히 확대될 것으로 보고 있다.
<심규호기자 khsim@etnews.co.kr>
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