日 후지쯔, 테라비트급 광메모리 제조기술 개발

일본 후지쯔가 현재 실용되고 있는 광자기 디스크보다 정보 기록밀도가 1천 배나 높은 테라비트(Tb)급 광메모리 제조기술을 개발했다.

「日本經濟新聞」에 따르면 후지쯔는 파장이 서로 다른 1천 종류의 빛을 기록매체에 중복해 조사(照射)하는 파장다중방식을 이용함으로써 현행 광자기 디스크보다 1천배 이상 높은 기록밀도를 실현하는 데 성공하고 2010년까지 광메모리 실용화에 나설 계획이다.

이번에 개발된 새 기술은 반도체의 미소한 점구조(양자도트)를 자연 형성시키면 그 크기가 미묘하게 흐트러지는 현상을 이용하고 있다. 점구조는 그 크기에 맞는 파장의 빛만을 흡수하는 성질이 있다. 매체에 조사한 레이저 빛의 스폿 안에는 점구조가 수만개 포함돼 있어 조사광(照射光)의 파장을 변환해도 그 크기에 맞는 수 개의 점구조만이 그 빛을 흡수한다. 이러한 특성 때문에 매체의 같은 장소에 정보를 중복해 입력할 수 있는 장점이 있다.

후지쯔는 크기가 10∼20㎚인 인듐비소의 점구조를 포함하고 있는 반도체 매체를 시험 제작해 영하 2백33도 상황에서 특정 레이저 빛을 조사하는 방법으로 점구조에 정보를 기록하거나 그 정보를 전기신호로 읽어낼 수 있다는 점을 확인했다.

초고밀도 광메모리의 연구는 지금까지 매우 가는 바늘이나 광파이버를 매체표면으로 운반해 색소 분자의 점구조에 정보를 입력하거나 출력하는 방법을 채용해 왔다. 이 때문에 바늘 등 구동기구의 정밀제어와 동작속도의 향상 등이 과제로 남아 있었다.

현재 보급된 광자기 디스크의 기록밀도는 1백Gb급이 한계이다.

<심규호 기자>