美 타이런, 시케디社와 반도체 가스제어시스템 공동개발

반도체 제조장치용 계량계측기기전문업체인 미국 타이런 제너럴社가 시케디社와 공동으로 반도체제조용 가스제어시스템을 개발했다.

「日經産業新聞」의 최근 보도에 따르면 양사는 차세대 반도체메모리 품질과 수율향상에 필수장비인 가스제어시스템을 공동으로 개발했다고 보도했다.

「인티그레이티드 가스시스템」으로 불리는 이 장치는 타이런의 유량계와 가스압력측정장치에 시케디의 고정밀 벨브막을 결합한 것으로 2백56MD램 제조용 CVD(化學的氣相成長法)장치,스퍼터링 장치,에칭장치등의 가스입출력부에 설치된다.

이 장치는 현재 미국에서는 프라이드 머티어리얼등이 도입을 검토하고 있으며 일본의 경우 일본현지법인인 타이런 제너럴과 시케디가 판매방법을 검토하고 있다.

도쿄일렉트론,스미토모금속,국제전기등이 구입의사를 가지고 있는 것으로알려지고 있는데 일본 반도체장비업체들이 개발중인 12인치웨이퍼를 사용하는 2백56MD램 제조장치에 적용시키는 것을 겨냥, 올해 수주에 나서 98년부터 본격 공급할 것을 검토하고 있다.

<박주용 기자>