RIST, 27.28일 웨이퍼 표면청정.분석 워크샵

산업과학기술연구소(RIST·소장 신창식)는 27일과 28일 양일간 경주 힐튼호텔에서 「제3차 반도체 웨이퍼 표면청정 및 분석 워크숍」을 개최한다.

미국·일본 등 11개국의 반도체 전문가 1백50명이 참석한 가운데 열리는이번 학술회의에서는 반도체 웨이퍼 표면청정기술과 차세대 웨이퍼로 각광받고 있는 SOI(Silicone On Insulator)기술의 개발 및 연구동향에 대한 각국의논문 24편이 발표된다.

특히 이번 학술대회에는 원자현미경 기술 발명자로 노벨상 후보에 올라 있는 캘빈 퀘이트 스탠퍼드대 교수를 비롯, 웨이퍼 표면 및 반도체 제조환경의청정기술에 관한 세계적인 권위자인 다다히로 오미 일본 동북대 교수·일본신에츠社의 웨이퍼 표면결함 분석책임자인 히로토시 야마기시 박사 등이 표면청정기법 및 분석기술·12인치 웨이퍼 기술동향에 대한 주제발표를 한다.

문의전화는 (0562)279∼6320

〈정영태기자〉