특허청, 의장출원 공개제도 도입 추진

특허청은 제3자의 모방이 비교적 쉬운 의장부문에서도 특허의 경우와 유사한 "의장출원 공개제도"의 도입을 적극 추진키로 했다고 3일 밝혔다.

현행 의장법에 의하면 의장을 출원한 후 소정의 심사절차를 거쳐 등록을 하기 전까지는 의장권의 설정이 이루어지지 못해 출원중에 있는 자기 의장을 제3자가 모방할 경우 이에 적절하게 대응할 수 없도록 돼 있다.

특허청은 이에 따라 출원인의 신청이 있으면 그 출원의장을 공개토록 하고공개후 제3자로부터의 무단모방이 있을 경우에는 보상금청구권을 행사할 수있도록 하는 내용을 골자로 하는 관련 법령의 시안을 마련、 오는 4월중 공청회 등을 거쳐 이번 정기국회에 상정할 예정이라고 밝혔다. <김종윤 기자>