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베프스, 초음파지문센서 공정 단순화 특허 취득

발행일2018.02.12 11:10
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베프스(대표 박영태)는 초음파지문센서 구동을 위한 필수 공정인 전극 형성과 관련된 특허 2건을 취득했다고 12일 밝혔다.

특허 기술은 전극을 같은 면에 노출시켜 공정 한 번으로 전극을 형성하는 내용이다. 기존에는 센서 양면에 각각의 전극을 형성시키는 방식이다. 베프스는 신기술로 전극 형성 공정을 단순화했다고 설명했다. 공정 단순화로 시간과 비용 단축 효과가 기대된다는 것이다.

초음파지문센서는 초음파를 통해 지문 모양을 인식하는 기술이다. 지문인식은 기술 특성에 따라 크게 △정전식 △광학식 △초음파 방식으로 구분되는데, 초음파는 다른 방식과 달리 사물을 투과할 수 있는 특성이 있다. 이에 풀스크린 형태의 모바일 디스플레이 안쪽에서 작동이 가능하고, 지문 외형뿐만 아니라 지문의 내피, 깊이, 땀구멍, 혈류 움직임 등을 파악할 수 있을 것으로 기대를 모으고 있다. 베프스는 이런 초음파지문센서 상용화를 추진하고 있다.

박영태 대표는 “초음파지문센서 관련 핵심기술에 대해 지속적으로 기술권리를 확보해 베프스의 기술사업화 역량을 강화하겠다”고 말했다.

베프스는 스마트폰 부품 업체인 캠시스 자회사다. 2009년 설립됐고, 2014년 캠시스 자회사로 편입됐다.

윤건일 전자/부품 전문기자 benyun@etnews.com

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