한·중 특허청이 양국에 출원된 동일한 발명을 함께 심사하는 '특허공동심사(CSP) 사업' 추진에 합의했다.
특허청은 지난 17일 중국 항저우시 황룽호텔에서 성윤모 특허청장과 선창위 중국 국가지식산권국장이 회담을 갖고 특허·디자인 분야에서 양국의 협력 성과가 국제 간 성공 사례로 이어질 수 있도록 협력하기로 했다고 19일 밝혔다.
회담에서 한·중 특허청장은 양국에 동일한 발명이 출원되면 특허 여부 판단에 필요한 선행 기술 정보를 양국 심사관이 공유하고, 다른 출원에 앞서 심사하는 CSP 사업에 관한 양해각서(MOU)를 교환했다.
중국은 CSP 사업 참여를 위해 한국과 처음으로 손을 잡았다. 현재 CSP는 한국과 미국, 미국과 일본 간에 체결·운영하고 있다. 양국은 CSP 실행을 위해 실무진을 구성, 세부 추진 방안을 협의하기로 했다. 제도가 시행되면 중국 특허청에서 소요되는 우선 심사 신청비가 면제돼 국내 기업의 중국 특허 취득 시간과 비용을 크게 줄일 수 있다.
이번 회담에서는 또 양국 특허청이 디자인 우선권 서류의 전자식 교환을 조속히 추진하는 방안에도 합의했다.
제도가 시행되면 한국 출원인과 중국 출원인이 각각 중국과 한국에 디자인을 출원할 때 제출해야 하는 우선권 서류를 제출하지 않아도 된다.
양국 특허청이 전자 방식으로 디자인 우선권 서류를 교환함으로써 양국 출원인의 불편함을 덜고 경제적 부담도 줄여 줄 것으로 예상된다.
이와 함께 한국 특허청은 중국이 추진하고 있는 디자인 심사 역량 강화, 디자인 분류 체계 개발 등에 적극 협조하기로 하는 등 디자인 분야에서도 협력을 강화하기로 했다.
성 청장은 “이번 회담에서 합의된 양국 간 지식재산권 획득 절차 간소화 조치 등은 중국에 진출한 우리 국민과 기업에 적잖은 편익을 가져다 줄 것”이라면서 “중국과의 협력 증진은 지재권 분야의 국제 논의와 규범 형성 선도에 양국 모두에 큰 보탬이 될 것”이라고 의미를 부여했다.
대전=신선미기자 smshin@etnews.com
